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HUAPAI
低溫等離子廢氣(qì)處理設備的技術機理(lǐ):
等離子體去除惡臭是通過兩個途徑實現的:一個是(shì)在高能電子的瞬間是高能量作用下,打(dǎ)開某些有害(hài)氣體分子的(de)化學鍵,使(shǐ)其直接分解成(chéng)單質原子或無害分子;另一個是在大量高能電子、離子、激發態(tài)粒子(zǐ)和氧自由基、氫氧自由基(自由基因帶有不成對電子而具有很強的活性)等作用下的氧(yǎng)化分解成無害產物。主要有下麵(miàn)幾個過程:
1、在高能電子作用下,強氧(yǎng)化性自由基O、OH、OH2的產生;
2、有機物分子受到高能電子碰撞被激發,及原子鍵斷裂(liè)形成小碎片基團和原子;
3、O、OH、HO2與激發原子(zǐ)、有機物分子、廢氣處理(lǐ)公司破碎的基(jī)團、其他自由基等發生一係列反應,有機物分子最終被(bèi)氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的高低與電子能量和有機物分子(zǐ)結合鍵能的大小有關。
從(cóng)除臭機理上分析,主要發生(shēng)以下反應:
H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O
NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O
H2S去除率可達91.9%,NH3去除率可達93.4%,臭氣濃度(dù)去除率可達93.6%。
從(cóng)上(shàng)述反應來看,惡臭(chòu)組分經過處理後,轉變(biàn)為NOx、SO2、CO2、H2O等小分子,在一定的(de)濃(nóng)度下,各種反應的轉化率均在95%以上,而且惡臭濃度較低,因此產物(wù)的濃度極低,均(jun1)能被(bèi)周邊的大氣所接受。